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NGK MEGCON:超純水帶電防止技術在精密制造中的應用

更新時間:2026-01-07      瀏覽次數:59
在半導體與電子元件的制造流程中,清洗環節至關重要。然而,作為清洗介質的超純水(UP Water),由于其離子含量極低,在特定工況下容易引發靜電問題,進而影響產品的良率。
針對這一行業共性難題,NGK公司開發了MEGCON系列超純水帶電防止器。該設備旨在通過技術手段,解決超純水清洗過程中的靜電積聚問題。

解決半導體清洗靜電難題:NGK MEGCON超.png

一、 靜電產生的機理與影響

超純水的高電阻率使其接近于絕緣體。在流經管道或進行高壓噴射清洗時,水流與管壁的摩擦會導致靜電荷在物體表面積聚。
這種靜電積聚可能帶來兩方面的直接影響:
1. 
電路損傷風險:靜電放電可能對精密電路造成損害。
2. 
污染風險:帶電表面容易吸附環境中的微粒子,增加產品缺陷的可能性。

二、 MEGCON的工作原理:從源頭控制

MEGCON的設計理念是預防靜電的產生,而非事后消除。其工作過程不涉及對水溫的調節,而是通過改變水的電學特性來實現防靜電功能。
該設備的核心組件采用膜分離技術,將**碳酸氣體(二氧化碳)**溶解于超純水中。氣體溶解后形成微量碳酸,產生離子,從而適度降低水的電阻率,賦予其導電能力。
經過處理的水被稱為 “酸性功能水" 。它在保持高潔凈度的同時,能夠及時導走摩擦產生的電荷,有效防止靜電積聚,降低電路損傷和微粒子吸附的風險。

三、 技術特點與應用領域

MEGCON系列在設計上注重實用性與穩定性,主要特點包括:
● 
穩定的控制能力:采用反饋控制機制,能夠在流量變化時,維持設定的比電阻值。
● 
低維護需求:設備結構設計減少了微粒子混入的風險,且進出口壓力損失較小。
● 
多樣的型號配置:提供**柜式(Cabinet Type)機架式(Rack Type)**等多種型號,以適應不同的安裝環境和流量需求。
目前,該技術已在多個關鍵制造領域得到應用:
● 
半導體制造:適用于晶圓切割(Dicing)清洗、高壓噴射清洗及洗滌塔(Scrubber)等工序。
● 
顯示面板行業:用于液晶面板、光掩膜(Photo Mask)及光罩(Reticle)的清洗。

四、 結語

NGK MEGCON超純水帶電防止器,通過獨特的氣體溶解技術,為解決半導體及精密電子制造中的靜電問題提供了一種可行的方案。它體現了NGK在工業清洗輔助技術方面的積累,為相關制造工藝的穩定運行提供了支持。


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