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日本otsukael光譜分布測量系統 GP系列 通過光學方法可以進行非接觸式和非破壞性的厚度測量。 實現高測量再現性 可實時高速監控拋光 實現了長 WD（工作距離）并且易于集成到設備中 從主機設備使用 LAN 通過 TCP/IP 通信進行控制 可以進行多層厚度測量 可測量臨時晶圓（臨時鍵合晶圓）各層厚度
更新時間：2024-07-12
日本otsukael光譜干涉式晶圓測厚儀SF-3 通過光學方法可以進行非接觸式和非破壞性的厚度測量。 實現高測量再現性 可實時高速監控拋光 實現了長 WD（工作距離）并且易于集成到設備中 從主機設備使用 LAN 通過 TCP/IP 通信進行控制 可以進行多層厚度測量 可測量臨時晶圓（臨時鍵合晶圓）各層厚度
更新時間：2024-07-12
日本otsukael 顯微分光膜厚儀OPTM系列 OPTM 是一種通過使用顯微鏡光譜測量微小區域的絕對反射率來實現高精度薄膜厚度和光學常數分析的設備。 各種薄膜、晶圓、光學材料等鍍膜、多層膜厚度的無損、非接觸測量。可以進行1秒/點的高速測量。此外，它配備了軟件，即使是初次使用的用戶也可以輕松分析光學常數。
更新時間：2024-07-12
日本otsukael 高靈敏度光譜輻射儀 HS-1000 能夠測量從0.005cd/m2的超低亮度到400,000cd/ m2的高亮度 支持 CIE 推薦的寬波長范圍（355nm 至 835nm） 專有光學系統減少了偏光誤差 (1%)， 可以
更新時間：2024-07-12
日本otsukael多通道光譜儀 MCPD-9800/6800 這是一款涵蓋紫外到近紅外區域的多功能多通道光譜檢測器。光譜測量可在短至 5 毫秒內完成。標準設備的光纖可用于各種測量系統，無需樣品類型。除了顯微光譜、光源發射和透射/反射測量外，它還可以與軟件結合使用，用于物體顏色評估和薄膜厚度測量。能夠從低亮度到高亮度進行高速、高精度測量的光譜輻射亮度計。
更新時間：2024-07-12
日本otsukael Zeta 電位/粒徑測量系統 ELSZneoSE 可根據應用增加功能（分子量測量、顆粒濃度測量、微流變學測量、凝膠網絡結構分析、粒徑多角度測量）。 使用標準流通池連續測量粒徑和 zeta 電位 可在從稀溶液到濃溶液（高達 40%）的寬濃度范圍內測量粒徑和 zeta 電位
更新時間：2024-07-12
日本otsukael 電位/粒徑/分子量測量系統ELSZneo ELSZ 系列中的最高型號，除了可以測量稀溶液到濃溶液中的 zeta 電位和粒徑外，還可以測量分子重量。作為一項新功能，多角度測量已被采用，以提高粒度分布的分辨率。它還可以進行顆粒濃度測量、微流變學測量和凝膠網絡結構分析。 新型zeta電位平板電池單元具有新開發的高鹽涂層，可以在鹽水等高鹽環境下進行測量。我們還有一系列超微量細胞單元，
更新時間：2024-07-12
日本napson晶圓平面度測量系統FLA-200 支持厚度測量、PN判斷、溫度測量（硅晶圓） 自檢功能，測量范圍廣 厚度/周邊位置/溫度校正功能（電阻率（resistivity）測量） 可根據要求容納任意數量的包埋盒。 *可選：通訊軟件，兼容SMIF或FOUP
更新時間：2024-07-12
日本napson非接觸式電阻計 EC-80 支持厚度測量、PN判斷、溫度測量（硅晶圓） 自檢功能，測量范圍廣 厚度/周邊位置/溫度校正功能（電阻率（resistivity）測量） 可根據要求容納任意數量的包埋盒。 *可選：通訊軟件，兼容SMIF或FOUP
更新時間：2024-07-12
日本napson4探針法全自動測量分選機 WS-8800 支持厚度測量、PN判斷、溫度測量（硅晶圓） 自檢功能，測量范圍廣 厚度/周邊位置/溫度校正功能（電阻率（resistivity）測量） 可根據要求容納任意數量的包埋盒。 *可選：通訊軟件，兼容SMIF或FOUP
更新時間：2024-07-12
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