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更新時間：2026-01-07 
瀏覽次數：51隨著半導體器件制造向微細化發展，以及300mm晶圓和大型LCD基板的普及，生產技術對精度的要求達到了前的所的未的有的高度。在這一進程中，藥液中肉眼難以察覺的**微氣泡（Microbubbles）**已成為制約良率的關鍵隱患。
微氣泡會導致顯影液分布不均、光刻膠殘留（Resist remaining）以及蝕刻工藝偏差等各類器件缺陷。因此，開發一種能夠高效、徹的底去除藥液中溶解氣體的脫氣技術，已成為半導體與液晶制造領域的迫切需求。
水晶科技（Suiho Techno）的脫氣膜之所以能在高精尖制造領域獲得廣泛信賴，核心在于其獨特的膜材料選擇與物理結構設計。
材質優勢：四氟乙烯樹脂（PTFE）產品采用聚四氟乙烯（Polytetrafluoroethylene，簡稱PTFE，即特氟龍）作為核心材料。這種材料具有極的高的化學惰性，賦予了膜組件卓的越的耐藥性、耐溶劑性及耐熱性。這使得該脫氣膜能夠直接應用于顯影液、光刻膠、蝕刻液、電鍍液及超純水等嚴苛化學環境中，而不會發生腐蝕或性能衰減。
結構革新：非多孔（Non-porous）設計與傳統的多孔膜不同，Suiho脫氣膜采用了非多孔中空絲膜結構。這一設計具有雙重優勢：
安全性： 徹的底杜絕了藥液向真空側泄漏（Leak）的風險，保障了工藝環境的安全與潔凈。
耐用性： 采用不易折斷的非多孔中空絲膜，相比傳統結構具有更優異的機械強度和使用壽命。
Suiho脫氣膜的運作并非簡單的物理過濾，而是一個基于氣體擴散定律的物理化學過程。
真空壓差驅動脫氣機制的核心在于利用分壓差。設備將PTFE中空纖維膜的外側保持真空狀態，而藥液則在膜的內側流動。
氣體選擇性透過由于膜內側藥液中溶解氣體的分壓高于真空側，氣體分子會通過四氟乙烯樹脂的管壁，從高壓側（藥液）向低壓側（真空）擴散。這一過程實現了對溶解在藥液中氣體的高效去除，且不會對藥液本身造成污染或損耗。
針對現代晶圓廠（Fab）對空間利用率的極的高要求，Suiho在設計上實現了突破。
高密度集成： 通過增加非多孔中空絲膜的束數，大幅增加了單位體積內的膜面積。
緊湊設計： 在保證大流量處理能力（適配300mm晶圓產線需求）的同時，實現了設備的省空間化與配管簡素化。
目前，該技術已廣泛應用于：
半導體制造： 顯影液、光刻膠液、漂洗液、蝕刻液及電鍍液的脫氣處理。
精密檢測： 顆粒計數器（Particle Counter）中，對可能影響測定值的樣品液進行脫氣，確保檢測數據的準確性。
其他領域： 精密涂布液及打印機墨水的脫氣。
水晶科技的特氟龍脫氣膜，通過非多孔PTFE材料與真空分壓脫氣機制的完的美結合，成功解決了微氣泡導致的工藝缺陷難題。它不僅提供了高純度的藥液處理方案，更以其緊湊的設計和卓的越的耐腐蝕性，成為了半導體與液晶制造中不的可的或的缺的關鍵組件。
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